HOT WATER DRYER
- Schonendes Trocknungsverfahren für Siliziumscheiben von 2" bis 12"
- Komplett metallfreier Aufbau
- Ausführungen für 25, 50 oder 100 Wafer
- Laborgeräte für 5 Wafer
- Scheibendicken von 350 bis 1800µm
- Kompatibel mit allen gängigen Carrier-Typen
- Standalone für Hand Be-/Entladung
- In automatische Ätzanlage integrierbar